Neue Labors werden eröffnet

Regensburg – Nach mehrjähriger Bauzeit wurde an der Universität Regenburg ein neuer, 319 Quadratmeter großer Reinraum für die Herstellung von Nanostrukturen und ein neues Tieftemperaturlabor eröffnet. Die Möglichkeit Materialien auf einer 10-nm Skala zu strukturieren und unter extremsten Bedingungen zu untersuchen, erlaubt es einerseits Grundlagen-forschung auf international konkurrenzfähigen Niveau zu betreiben und vermittelt andererseits den Absolvent/innen praktische Fähigkeiten auf dem Gebiet der Halbleiter- und Nanotechnologien. Diese Kompetenzen werden auch von High-Tech Unternehmen in der Region gesucht und geschätzt.
Strukturen in Halbleiter-Prozessoren und Datenspeichern haben zwischenzeitlich Größen von nur noch 10 Nano-meter (1nm = ein Millionstel Millimeter) erreicht. Solche Strukturen können in Reinräumen, d. h. unter weitgehend staubfreien Bedingungen, mit Hilfe von Elektronenstrahllithographie hergestellt werden. Bei dieser Methode werden die gewünschten Strukturen mit einem feinst fokussierten Elektronenstrahl in einen Lack geschrieben und anschließend auf das Material übertragen. Auf diese Weise können solch winzige Strukturen in Halbleiter, in topologische Isolatoren aber auch in neue zweidimensionale Materialien wie Graphen (eine Atomlage Graphit) oder Dichalkogenide, (z.B. Molybdändisulfid und Wolfram-disulfid) übertragen und bei-spielsweise transistorähnliche Bauelemente realisiert werden. Die Eigenschaften dieser neuartigen elektronischen Materialien werden gerade weltweit, auch im Hinblick auf mögliche elektronische Anwendungen, untersucht, so auch im neu eingerichteten Sonderforschungsbereich SFB 1277 „Emergente relativistische Effekte in der Kondensierten Materie“ an der Universität Regensburg. Um die Physik dieser neuartigen Materialien zu verstehen, ist es nötig diese unter extremen Bedingungen, d. h. bei Temperaturen nahe am absoluten Nullpunkt und in hohen Magnetfeldern (bis zum 400.000-fachen des Erdmagnetfeldes) zu messen.